Gedruckte Elektronik

Fineline Siebdruck-Chemie

Von Katrin Oehrle, Anwendungstechnik Sieb- und Textildruck, Kissel + Wolf GmbH

Primären Ziele der kristallinen Photovoltaik sind die Senkung der Zellkosten und gleichzeitig deren Effizienzsteigerung. Der Siebdruck leistet hier einen beachtlichen Beitrag, da mit ihm immer schmaler werdende Leitfinger in hohen Prozessgeschwindigkeiten auf der Solarzellenvorderseite realisiert werden können. Diese und auch die Miniaturisierung funktionaler Drucke, beispielsweise in der Elektronik, stellen sehr hohe Anforderungen an die Siebdruckschablone dar. Damit solche feinen Linien nicht nur in der Schablone aufgelöst, sondern später auch im Druck funktionieren können, müssen alle Parameter in der Schablonenherstellung perfekt aufeinander abgestimmt sein. So spielt in erster Linie die eingesetzte Schablonenchemie eine entscheidende Rolle – die alleinige Beschichtung mit Kopierschicht genügt oft nicht mehr. Zunächst sollte eine Basisbeschichtung mit einer hochauflösenden Kopierschicht durchgeführt werden. Im Anschluss an die Beschichtung mit Kopierschicht kann ein TopCoat, also ein spezielles Beschichtungsmedium für Siebdruckemulsionen, auf der Druckseite nachbeschichtet werden, was den Rz-Wert weiter verbessert und die Siebdruckschablone vor mechanischen Angriffen im Druckprozess schützt.

Kissel + Wolf GmbH, D-69168 Wiesloch, www.kiwo.de